芯片制造的流程是非常復雜的，需要使用各種各樣的半導體設備和材料。其中光刻膠在光刻過程中用于保護晶圓襯底基座，并在晶圓表面呈現芯片線路圖案。

全球光刻膠市場一直被日本壟斷中，而中企傳來好消息，國產14nm光刻膠開始投產了。這是怎樣的破冰情況呢？打破光刻膠壟斷有多重要？

國產光刻膠更進一步

一顆小小的芯片，背后是千億美元的產業鏈，從設計到制造，再到封裝測試，一系列的環節都需要大量的技術設施支持。軟件層面的EDA，硬件領域的光刻機，除此之外，看似不起眼的光刻膠材料也能起到至關重要的作用。

光刻膠在芯片制造行業只占很少的成本，可如果沒有光刻膠，即便掌握高端EUV光刻機，也未必能將芯片圖案曝光在晶圓上。

光刻膠是一種光敏化學材料，光刻機運作過程中，用于抗腐蝕圖層，從而在晶圓表面得到所需的圖像。

這么重要的材料，大部分的核心技術以及市場份額掌握在日本手中。總部位于東京的JSR是高端光刻膠供應商，可以提供大量的ArF，EUV等光刻膠材料，占據全球30%至40%左右的市場份額。

還有東京應化這家日本企業，在EUV光刻機市場份額也超過了50%。信越化學同樣掌握高端光刻膠的核心技術，與JSR，東京應化這幾家日企壟斷了全球90%的光刻膠市場。

市場上主流的光刻膠基本來自日本，臺積電，三星根本離不開日本光刻膠供應。只是市場，技術掌握在對方手中，難免會受到制約。因產能和規則問題，日本企業未必能保證順利出貨。

所以掌握自主光刻膠顯得十分重要，中國也有自己的光刻膠廠商，主要包括南大光電、上海新陽、晶瑞電材等等。

其中南大光電立功了，傳來了ArF光刻膠破冰的好消息。根據媒體消息，南大光電可用于14nm的ArF光刻膠開始投產，正在對客戶交付。

南大光電是國產光刻膠的領頭羊，接連取得相應的突破進展。先是在今年第一季度建成兩條ArF光刻膠生產線，然后又進行了客戶驗證，對ArF光刻膠的項目穩定推進。

南大光電的立功讓國產光刻膠更進一步，在中低端光刻膠領域實現了大部分產品的國產化，面向高端也有一些布局行動。

雖然日本企業依然掌握核心技術和主要市場份額，但隨著國產光刻膠技術的不斷深耕，未來實現更大規模的出貨，在國產生產線實現替代化，那么打破壟斷未必不可能。

打破光刻膠壟斷有多重要？

日本在光刻膠賽道起步較早，入局者較多，所以積累了大量的核心技術，形成知識專利體系壁壘。想要打破壟斷的話，只能尋找更多的出路，探索更多的技術可行性。

因此花費的時間是非常多的，即便同樣是KrF，ArF制程，也得實現技術的唯一性。好的一面是，南大光電的技術具有唯一性和不可替代性等特點，是目前國產光刻膠領域的佼佼者。

經過二十多年的積累沉淀，南大光電可以為客戶提供定制化產品服務，在客戶的平臺進行光刻膠產品驗證，并進行調校，優化服務方案。面對日企的行業領先，打破壟斷有多重要？

首先國產芯片正在加速前行，需要更多的國產產業鏈技術設施支持。

國內定下了70%的芯片自給率目標，實現這一目標不僅需要產能支持，而且背后的產業鏈也需要提供自主化技術，以便在較短的時間內能滿足提產的需求。

光刻膠是一大重點，從低端的g線，i線，再到中高端的KrF，ArF光刻膠，甚至未來的EUV也需要持續攻克。國產芯片正在加速前行，有了國產產業鏈技術設施的支持，可以建立夯實的供應基礎。

其次在供貨，定價等方面掌握話語權。

產品掌握在別人的手中，能拿到多少貨品，花多少錢采購都由別人說了算。日本光刻膠廠商一度因產能稀缺無法正常供貨，且價格持續暴漲。

若打破壟斷，有了自己的產品作為替代和候補，那么在供貨，定價等方面就能掌握話語權。即便不需要放棄對方的光刻膠產品，也能以國產光刻膠作為退路，增加議價的權利。

國產光刻膠在這幾年持續發力，有南大光電，上海新陽以及徐州博康等公司參與其中，相關的技術，產業鏈設施都在逐步完善。尤其是南大光電的ArF光刻膠，是可應用于55nm，28nm，14nm等制程的重要材料。

國產芯片正在擴大成熟芯片產能，相信能為國產芯片的發展帶來更多的助力。

寫在最后

光刻膠是芯片制造過程中不可獲取的材料，國產廠商起步時間較晚，所以許多方面還需要攻堅克難。好在國產光刻膠已經開始提速了，積累不少關鍵技術，期待能取得更大的突破。

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