原標題：消息稱 ASML 將向中國推出“特供版”DUV 光刻機

IT之家 7 月 6 日消息，根據 DigiTimes 報道，ASML 試圖規避荷蘭新銷售許可禁令，面向中國市場推出特別版 DUV 光刻機。

消息稱如果該項目繼續推進，中芯國際、華虹等中國半導體企業可以繼續使用荷蘭的設備生產 28 納米及更成熟工藝的芯片。

圖源 ASML

消息稱該特別版 DUV 光刻機基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統改造，而 1980Di 是 10 年前推出的舊型號，不在本次官方禁令范圍內。

1980Di 是 ASML 現有效率比較低的光刻機，支持 NA 1.35 光學器件、分辨率可以達到 <38 nm，理論上可以支持 7nm 工藝。

大多數晶圓廠使用 1980Di 光刻機，主要生產 14nm 及以上工藝芯片，很少使用其生產 7nm 芯片。