光刻膠是微納加工過程中非常關鍵的材料。有專家表示 中國要制造芯片 光有光刻機還不夠 還得打破國外對“光刻膠”的壟斷。

日前 西湖大學仇旻研究團隊在《納米快報》《納米尺度》《應用表面科學》等期刊上連續發表一系列研究成果 雕刻小到微米甚至納米級別的“冰雕”游刃有余 從精確定位到精準控制雕刻力度 再到以“冰雕”為模具制作結構、加工器件 一套以“wafer in device out”（原料進 成品出）為目標的“冰刻2.0”三維微納加工系統雛形初現。

這個研發帶來顯然極具前景 為何這樣說呢？零下140攝氏度左右的真空環境 能讓水蒸氣凝華成無定形冰。“無常形”的水蒸氣可以包裹任意形狀的表面 哪怕是極小的樣品也沒有問題；水蒸氣輕若無物 使在脆弱材料上加工變成可能。對應“光刻膠” 他們給這層水冰起名“冰膠” 給冰膠參與的電子束光刻技術起名“冰刻”。

實際上 一旦將光刻膠換成了冰膠 還能夠極大地簡化加工流程 規避洗膠帶來的污染 以及難以洗凈的光刻膠殘留導致良品率低等問題。“冰刻”只需要讓冰融化或升華成水蒸氣即可 仿佛這層冰膠不曾存在過一樣。

上述團隊在最新發表的文章結尾 他們用一種非常科幻的方式展望了“冰刻”的未來。毫無疑問 未來圍繞“冰刻”的研究 將聚焦于傳統“光刻”能力無法企及的領域。

受益于水這種物質得天獨厚的生物相容性 在生物樣本上“冰刻”光子波導或電子電路有望得以實現。

責任編輯：PSY