導讀 今日南大光電發布公告稱 其控股子公司 “寧波南大光電”自主研發的 ArF（193nm）光刻膠產品近日成功通過客戶的使用認證。報告顯示 “
今日南大光電發布公告稱 其控股子公司 “寧波南大光電”自主研發的 ArF（193nm）光刻膠產品近日成功通過客戶的使用認證。報告顯示 “本次認證選擇客戶 50nm 閃存產品中的控制柵進行驗證 寧波南大光電的ArF光刻膠產品測試各項性能滿足工藝規格要求 良率結果達標。”
“ArF 光刻膠產品開發和產業化”是寧波南大光電承接國家 “02 專項”的一個重點攻關項目。本次產品的認證通過 標志著 “ArF 光刻膠產品開發和產業化”項目取得了關鍵性的突破 成為國內通過產品驗證的第一只國產 ArF 光刻膠。
據 了解 光刻膠是半導體芯片制造過程中的核心材料之一 經過紫外光、電子束等照射 光刻膠得到曝光 化學性質發生改變 經過顯影液的洗滌 圖案會留在襯底上。光刻膠分為 KrF（248nm）、ArF（193nm）和 EUV（13.5nm）幾種 括號中的數值為曝光光源的波長。
責任編輯：PSY
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