臺積電和三星均已投入5nm工藝的量產 前者代工的產品包括蘋果A14、M1、華為麒麟9000等 后者則包括Exynos 1080、驍龍888等。其實從7nm開始 臺積電和三星就開始引入EUV光刻 但過程層數較少。按照ASML（阿斯麥）的說法 迭代到5nm后 EUV的層數達到了10~14層 包括但不限于觸點、過孔以及關鍵金屬層等過程。未來的3nm、2nm 對EUV的依賴將更甚。

根據最新數據顯示 ASML在12月中完成了第100臺EUV光刻機的出貨。更加利好的消息是 業內預估ASML今年（2021年）的EUV光刻機產能將達到45~50臺的規模。

畢竟 2019年ASML僅出貨了26臺 去年三季度后全年累計出貨23臺（全年預估35臺） 可謂少得可憐。

另外 ASML定于明年中旬交付最新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE:3600D 生產效率提升18%、機器匹配套準精度改進為1.1nm 單臺價格或高于老款的1.2億歐元（約合9.5億元人民幣）。